中微公司尹志堯表示將繼續堅定發展本土半導體行業和產業鏈

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2022-08-23 14:37:07 0

《科創板日報》8月19日訊科創板開市三周年云上峰會今日正式舉行。本屆峰會由上海報業集團指導，界面·財聯社|科創板日報主辦，以“硬核驅動·新能引擎”為主題。中微公司董事長、總經理尹志堯作為演講嘉賓，在論壇上作了題為“半導體設備產業的發展趨勢”主題演講。

尹志堯表示，伴隨國內晶圓廠高增速持續擴產，半導體設備產業近年來迎來高速發展階段。半導體設備市場高增長一方面是由于中國大陸市場優勢明顯，另一方面則是國內等離子干法刻蝕和化學薄膜設備保持高速增長，不斷覆蓋更多應用。

“最近，南昌的某一生產線訂購了100臺中微設備，以前像這樣的生產線都需要進口美國、德國的設備，而現在基本實現了本土化。”尹志堯說，我們要繼續堅定發展本土半導體行業和產業鏈，提升我國半導體產業的安全性和穩定性。

以下為尹志堯先生的演講實錄：

尊敬的各位嘉賓、各位朋友：

大家好！在科創板成立三周年這個喜慶的日子里，非常有幸有機會給大家匯報一下半導體設備產業的發展趨勢以及中微公司的簡要介紹。

在2019年7月，中微公司非常有幸隨科創板*批25家企業上市，并*個達到千億市值?；叵脒@三年，此刻是非常激動的！

下面我介紹一下我們所處在的行業，大家知道數碼產業是發展最快的，而且是國民經濟的一個重大支柱產業。這個產業分成4個層次。最上面為上層建筑，軟件網絡、電商、傳媒、大數據、AI 、VR等，規模非常之大，但是它建立在一個電子系統的基礎上，小到電子玩具，大到全*聯網的計算機系統，那么整個的電子系統又建立在集成電路產業的基礎上，產業規模大概5000億到1萬億元左右。

集成電路的微觀器件制造，又建立在半導體設備這樣的產業基礎上，中國有句古話叫“工欲善其事，必先利其器”，這個產業的尺度并不是很大，大概在500億到1000億元這樣的產值范圍。半導體設備又建筑在傳統工業的基礎上，我們所從事的就是半導體設備這個核心的產業。

舉個例子，使大家有一個直觀的感受。在過去的70年里，從上世紀50年代開始到現在，我們數碼產業做了一個最重要的一件事是什么東西呢？就是把微觀器件越做越小，在50年代的時候還沒有集成電路，有電子管的計算機，128k這樣的電子管計算機，要有2棟的5層大樓里面全部是電子管。我在北大讀研究生的時候，北大就有這樣的一個計算機，2棟5層的大樓里面全部是電子管在里面進上，我后來到了硅谷的英特爾，那時已經把128K容量做到一個指甲蓋上去了，在30年間，微觀器件面積上縮小100萬倍。又過了30年到2015年，日本東芝首先宣布做出了128G的閃存器件，在30年里又把微觀器件的面積縮小了100萬倍。

所以在70年來我們做了一件什么事呢？把東西越做越小，大家聽說這個摩爾定律，縮小了一萬億倍，而這里面是有10大類集成電路的微觀加工設備來輪番進行加工，其中最關鍵的確定微觀尺度的就是兩個機器：一個是光刻機，一個是等離子體的刻蝕機，而且第三個就是化學薄膜設備，我們中微就是致力于制造離子刻蝕機和化學薄膜設備。

28納米器件結構，已經是比較成熟的器件生產，可以看到這里大概有二三十層復雜的結構，相當于蓋一個微觀的樓房，我們的設備光刻機、等離子刻蝕機和薄膜設備，就這樣一層一層得把樓房蓋上去。薄膜就像一個木刻，要一個材料，光刻機就在材料上畫，等離子刻蝕機像刻刀，把不要的東西給它刻掉，從而形成三維立體結構。

半導體設備行業其實是發展最快的行業。由于新冠疫情全球肆虐，2020年全球GDP增速是負值，到了2021年有所恢復，全球GDP實現5.9%增長。但是可以看到集成電路去年生產增加了20%，而半導體設備市場增加了43.8%。過去幾十年來都是這樣，半導體設備產業是一個發展速度最快的產業。

剛才我提到半導體設備大概有10大類設備，其中目前最大的一類設備就是刻蝕設備，等離子刻蝕機每年大概有200億美元的市場；第二類是薄膜設備，也將近200億美元的市場；第三類最大的設備是光刻機，過去光刻機曾經是最大類的設備，最近的5到7年，由于器件結構的變化，光刻機所占比重有所下降，而等離子刻蝕劑和薄膜設備有所增長；第四類設備則是檢測設備。

從另外一個角度來看，刻蝕設備占22%，化學薄膜設備在薄膜設備占相當大比例，占15%，而光學檢測在檢測設備里又占了相當大比例，大概占了將近5%。中微公司主要從事或設計的就是這三類設備，公司生產的各等級刻蝕設備已經能夠實現應用全覆蓋，與沈陽拓荊合作實現化學薄膜設備交叉覆蓋。此外，我們還投資了上海睿勵科技，進一步研發光學檢測設備。

這個產業雖然發展速度很快，但是有一個致命的問題，就是它的發展是不穩定的。這張圖表示從1984年到2018年，每一年全*的芯片生產線投資是前一年增長百分之多少和減少百分之多少，大家可以看到最高的可以一年就增長100%，而最不好的一年可以下降百分之三四十，所以我們這個產業是波動很大的產業，它和國民經濟狀況以及和集成電路本身新產品進入市場的周期性有非常大的影響。所以我們必須要學會怎么駕馭浮動的市場，保持公司穩定增長。

從各個*和地區投資芯片生產線以及購買半導體設備的情況來看，去年2021年中國大陸*年成為全球最大的市場，占了25%，市場非常興*。第二大是中國臺灣地區占23%，韓國的占21%，美國占14%，就是4大區域。但是在中國大陸里，其實本土的設備生產線的投資大概占一半，境外的先進芯片生產公司在中國的投資占了一半左右。

從另一個角度來看，在中國建一條生產線，我們從哪些*來購買設備的？2020年的數據表明，從美國購入占53%，占了一半以上，荷蘭占16%，主要是光刻機，日本占17%，中國自己提供的僅占10%，2021年暫時還沒有數據，大概估計中國國產設備占12-13%，所以我們的芯片的生產在很大程度上還依賴于國外設備的進口，包括零部件和材料，所以這是一個情況比較嚴峻的情況。我們需要下定決心繼續發展本土的產業和產業鏈，使我們的集成電路能夠更加自主。最近5到7年，芯片器件產生了相當多的變化，目前最先進的EUV紫外光刻，用了13.5納米波長的機器，只能刻出14納米的微觀結構。而10納米以下到5納米，甚至3納米的微觀結構是靠等離子刻蝕機和化學薄膜的組合拳，通過二重模板和四重模板等離子體刻出光刻尺度的1/2到1/4。

另外我們再看，占大規模生產的存儲器件也有根本性的變化。7年前基本上是兩維的芯片，比如在一個平面上把晶元件壓縮到大概在12納米左右，再往下壓縮就壓不下去了，所以就決定做成三維立體結構?，F在可以做到128層，甚至到192層，將來做256層的結構。在這種情況下，刻蝕機和薄膜設備的負擔就加重了，要加很多深層結構，比如刻蝕機過去刻蝕一個淺層結構，2-3分鐘可以刻，現在需要一個小時甚至到兩個小時，所以需要更多的刻蝕機和薄膜設備。所以從2011年到2021年的這10年里面，10種設備的增長，每年平均年增長都是不一樣的。其中，等離子干法刻蝕和化學薄膜是增長最快的兩個設備。

下面簡單解釋一下公司的情況，中微公司是2004年在開曼群島注冊，但是在上海建立了中微半導體設備（上海）有限公司，到現在為止已經整整有18年的歷史。經過6年的努力，我們在2019年上了科創板，到現在為止，公司員工有1200人左右，去年公司產值達到了31億，正在以比較高的速度發展。

我們公司在10個*布局，我們的宗旨是建立以中國為基地的，但是面向國際半導體市場的國際化公司，中微公司在國外和國內共有6個子公司，包括在中國臺灣、新加坡、韓國、日本和美國，在歐洲有我們的代理商，各個地區有一共有15個區域的辦公室，我們在過去的十年里一直保持了高于35%的年銷售增長率。

在去年基數很高的基礎上，仍然有高于35%的增長，在全*70多條生產線上，我們積累的臺數有2300多個反應臺，今年可能要超過3000臺的反應臺。我們主要的客戶在等離子刻蝕機上面對的是集成電路的*廠商，包括國內和國際的廠商。MOCVD是我們的第二大產品，主要是泛半導體的發光二極管和顯示屏技術，面向的也都是國內外的*的廠商。

我們一共有四大產品，*大產品也是最成熟的產品，是電容性的高能等離子刻蝕機，目前已經進入5納米晶圓生產線，并在5納米以下也取得了非?？上驳倪M展。第二個產品是深硅刻蝕機，專門做先進封裝和傳感器的刻蝕機。

中微公司在過去十幾年里開發了一系列等離子刻蝕機，基于不同的型號，包括高能CCP等離子刻蝕機和低能ICP等離子刻蝕機，這兩種機型都有單臺機和雙臺機，單臺機就是最高水平要求的刻蝕應用，而雙臺機可以實現占地面積最小和最高的輸出量，來達到最低的成本，可以覆蓋大多數的刻蝕應用，所以是一個非常完整的系列。

我們刻蝕、邏輯線路、動態存儲器以及閃存的各種各樣的復雜的結構，在我們這個行業里面最難做課時的就是深孔刻蝕。經過幾十年的努力，從我在80年代做的是3：1-5：1比的深孔，現在已經做到60：1的深孔，我們在2014年可以做到20：1的深孔刻蝕，就是深孔的深度和直徑的比是20：1，到2018年做到40：1，到2021年做到了60：1的深孔。將來再往下走的話，要刻是更細更深的孔，這是我們產業最大的挑戰。

另外在低能等離子刻蝕機方面，ICP 刻蝕機也可以刻出各種各樣的復雜結構和形狀，中微公司的刻蝕*度已經可以刻蝕上萬億個線條，它的寬度均勻性已經做到了原子水平的加工精度。

我們的雙臺ICP低能等離子刻蝕機也有很好的表現，我們在市場上所競爭的對手大部分只有單臺機，沒有雙臺機，而我們有雙臺機的結構，所以我們擁有相當大的競爭優勢。另外一個產品剛才我也提到了，是用于發光二極管到Mini LED顯示屏的MOCVD設備，這個設備有55噸重，有13米長，需要40萬瓦功率支持，有4個反應器，可以把底物加熱到1100度，來化學沉積的發光材料，我們已經有三代的產品，目前在藍光、綠光的氮化鉀這樣的一個領域，我們處在國際最*的地位。

就在南昌的一個大生產線上，一次性就定了100臺中微設備，過去都是美國、德國的設備，現在基本上都是國產化的。在2016-2021年，5年的時間里我們的銷售增長保持在35%以上，在2021年和今年基數很高的情況下，仍然保持比較高速的增長。從訂單來講，2021年比2020年增長了90%，這個訂單增加了90%，付運臺數增加了66.4%，而確認收入增加了36.7%，如果按美元計算增加了43%，大概就是40%左右的增長速度。

今年上半年雖然有疫情的肆虐，但是我們堅持沒有停產繼續營運，所以今年上半年比去年上半年訂單又提高了61.8%，中微公司營業收入提高了47.16%，凈利潤扣非以后增長了6倍左右，所以今年上半年業績也是非常好的，而且我們人均創收達到了非常高的水平，每人平均創收326*民幣，今年將達到更高。

另外大家知道我們這個行業是一個技術密集的行業，而且專利和出口控制非常嚴格。我們在十幾年里申請了專利2000多項，而且其中發明專利占85%，已經核準的項目有1179項，我們擁有相當好的一個“專利池”來保護我們的技術產權。第二，我們在質量管理上也推行了整個一套管理制度，在去年4000萬家公司參與的質量獎評選中，我們名列第十五名，獲得了“提名獎”，

在國際上的中微的發展也得到普遍認可，美國有一個公司叫VLSI Research，它專門對全*的集成電路半導體設備進行全球分析和評比，在2018年和2019年我們參與了這兩次評比，非常有幸被評為第三名，所以我們產品的競爭力和客戶滿意度比較廣泛地得到了產業認可。等離子刻蝕機被評為第二名，而薄膜設備被評為了*名，在2021年我們又第三次參與了評比，我們拿到了第四名，但是第四名和第三名只差了0.07分。此外，中微公司是*一家同時獲得三個獎項的公司，在國際半導體設備產業得到了廣泛的認可。

在刻蝕機方面，大概60%的零部件是在本土生產和采購的，需要從美國采購的部分大概在10%上下，MOCVD做得更好一些，80%的零部件已經國產化，還有5%左右要從美國進口。我們還在繼續努力，希望在5-10年內能夠實現更高水平的國產化率。現在我們還在繼續開發不同的產品，特別是高端產品繼續進入市場，時間有限，我就不解釋的簡單就詳細解釋了。我們刻蝕設備主要將推出4個新產品，在MOCVD方面也將推出三個新產品，上述產品我們正在緊鑼密鼓地開發。

在我們開發產品和打入市場的同時，我們去年完成了82億人民幣的融資，用于開發三個建設項目，為以后的10年和15年打下很好的基礎。其中*個項目是南昌生產研發基地14萬平方米，到現在已經開始部分啟用，臨港有個18萬平方米的生產研發基地，到年底也可以部分啟用。上海臨港滴水湖畔約10萬平方米的研發中心暨總部大樓也在順利建設，明年也可以部分投入使用。預計2024年，我們將擁有45萬平方米的廠房，而現在我們只有不到3萬平方米的廠房，會增長15倍以上，以確保以后的10年至15年公司大發展。

中微公司在過去的十幾年里面總結了各方面的經驗教訓，總結為叫“四個十大”，通過“四個十大”的總結和提高，保持公司繼續發展。具體包括“產品開發的十大原則”、“戰略銷售的十大準則”、“營運管理的十大章法”和“精神文化的十大作風”。

我們有這“四個十大”作為我們的法寶，可以確保在以后10年至15年實現高速、穩定、健康和安全的發展。希望到2035年，我們能在規模上成為國際微觀加工設備*行列之中。

免責聲明：本文轉載自“科創板日報”，本文僅代表作者個人觀點，不代表薩科微及行業觀點，只為轉載與分享，支持保護知識產權，轉載請注明原出處及作者，如有侵權請聯系我們刪除。

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