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一文解讀半導體掩膜版
  • 更新日期: 2025-01-15
  • 瀏覽次數: 2520
晶圓制造核心材料 掩膜版,亦稱光罩,是微電子制造領域內光刻工藝不可或缺的核心組件,其角色相當于傳統攝影中的“底片”,扮演著承載精密圖形設計和技術知識產權信息的媒介角色。這一技術廣泛應用于半導體生產、平板顯示制造、電路板生產及觸控屏產業等多個高科技領域。依據最終應用領域的差異,掩膜版被細分為平板顯示掩膜版、……
BOAT(晶舟):承載和傳送晶圓的工具
  • 更新日期: 2025-01-15
  • 瀏覽次數: 2122
在半導體集成電路(IC)制造過程中,BOAT(晶舟)是一種常用的工具,主要用于承載、傳送、清洗和處理芯片。它的作用類似于運輸工具,確保芯片在復雜的制造工藝中能夠順利、安全地完成各個環節的處理。 一、BOAT的定義與功能 BOAT是半導體制造過程中用于承載和傳送芯片的工具。它的名稱“晶舟”形象地比喻了其在半導……
晶圓定位邊(wafer flat)和凹槽(notch)之間的關系
  • 更新日期: 2025-01-15
  • 瀏覽次數: 2109
晶圓定位邊(wafer flat)和凹槽(notch)是晶圓制造過程中用于確定晶圓方向的重要特征,它們在晶圓的加工、對準和檢測中發揮著至關重要的作用。 1. 晶圓定位邊(Wafer Flat) 晶圓定位邊是指晶圓外緣上平直的部分,它用于標記晶圓的特定方向,確保在晶圓的加工和處理過程中,晶圓能夠正確地對準。可……
為什么晶圓的邊需要鋪滿電路?
  • 更新日期: 2025-01-15
  • 瀏覽次數: 1490
晶圓制造工藝是半導體生產中的關鍵步驟,晶圓的邊緣區域對整個制造過程和成品良率具有重要影響。 1. 防止邊緣效應影響芯片質量 邊緣效應指的是由于晶圓邊緣的處理不同于中心區域,導致的電學和物理性能的差異。晶圓邊緣由于距離加工工具較遠或光刻曝光時的處理不均,可能會出現性能不穩定的情況。比如,金屬層和通孔的連接可能……
SIA:敦促美國貿易代表辦公室謹慎行事,并與業界密切合作
  • 更新日期: 2024-12-26
  • 瀏覽次數: 1660
2024年12月23日,美國貿易代表辦公室宣布對中國成熟制程芯片發起301條款調查。對此,美國半導體行業協會(SIA)總裁兼首席執行官 John Neuuffer發布聲明回,內容涉及拜登政府決定發起 301 條款貿易調查,重點關注中國與針對半導體行業占據主導地位相關的行為、政策和做法。 以下為聲明原文: 中……
英諾賽科即將登陸港股:氮化鎵分立器件累計出貨量全球第一!
  • 更新日期: 2024-12-23
  • 瀏覽次數: 1886
氮化鎵龍頭大廠英諾賽科(蘇州)科技股份有限公司(以下簡稱“英諾賽科”)于今年6月正式向香港證券交易所遞交了IPO上市申請之后,12月12日晚間,根據港交所披露的信息顯示,英諾賽科已經通過上市聆訊,并披露聆訊后資料集。 根據計劃,英諾賽科將全球發售4536.4萬股H股,發售價區間為每股30.86港元至33.……
英特爾股東起訴前CEO基辛格:要求退還2.07億美元收入
  • 更新日期: 2024-12-23
  • 瀏覽次數: 2087
12月20日消息,據The Register 報道,英特爾股東 LR Trust 已對英特爾高管提起訴訟,指控英特爾前首席執行官帕特·基辛格 (Pat Gelsinger) 和英特爾臨時聯合首席執行官兼首席財務官大衛·津斯納 (David Zinsner) 管理不善、誤導性披露,并要求將他們獲得的賠償金和其他收益退還給……
FAB中PIE的作用和要求
  • 更新日期: 2024-12-18
  • 瀏覽次數: 2159
工藝整合工程師(Process Integration Engineer,PIE) 是半導體制造領域的重要崗位,負責協調和優化整個芯片制造流程中的工藝整合。這一角色需要將多個制造工藝步驟整合為一個無縫的流程,以確保芯片的性能、良率和可靠性。 一、核心職責 1、工藝整合 將不同的工藝模塊(如光刻、蝕刻、……
描述晶圓薄膜厚度的單位:埃
  • 更新日期: 2024-12-18
  • 瀏覽次數: 1939
1、什么是埃(Angstrom)? 埃(符號:?)是一種非常小的長度單位,主要用于表示微觀領域的尺度,例如原子、分子之間的距離,或者晶圓制造中的薄膜厚度。1 ? 等于 (10^{-10}) 米,也就是0.1納米(nm)。為了更直觀地理解這個概念,我們可以通過以下比喻說明: 一根人的頭發直徑約為70,000納……
SMIC MPW班車表中如何理解AT、MV、HE、ATV?
  • 更新日期: 2024-12-18
  • 瀏覽次數: 1602
"AT"、"MV"、"HE"、"ATV"實際上是SMIC在其晶圓制造工藝中使用的一些標識符,通常與特定的工藝、技術類型和特色流程相關。SMIC 2025 MPW 班車表如下: 1. AT — Advanced ……
晶圓刻蝕工藝中的Qtime管控
  • 更新日期: 2024-12-18
  • 瀏覽次數: 2505
Qtime管控(Queue Time Control)是半導體制造過程中一個重要的和效率管理環節,尤其在刻蝕工藝(ETCH)中顯得尤為重要。 一、Qtime的定義和重要性 Qtime(Queue Time)即“排隊時間”,是指在生產流程中,某一工序或設備在接收到任務后,等待處理的時間。具體來說,Qtime是指晶圓在一個工序的前一工序完成到該工序開始的時間間隔。在刻蝕工藝中,Qtime主要是指晶圓在不同的刻蝕步驟之間的等待時間,或者從晶圓進入刻蝕機到開始刻蝕的時間。 Qtime的管控至關重
如何理解晶圓制造的生產周期時間(Cycle Time)
  • 更新日期: 2024-12-09
  • 瀏覽次數: 2328
作為晶圓制造中的核心指標之一,生產周期時間(Cycle Time,簡稱CT)對于衡量制造效率和產能至關重要。 1. 什么是生產周期時間? 生產周期時間是指從生產原料(如硅片)進入生產線,到最終產品(如完成制造的晶圓或芯片)從生產線輸出所需要的全部時間。在晶圓制造領域,Cycle Time 是衡量生產效率、分……

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